佳能推出适合高功能半导体的光刻机

　　原标题：佳能推出适合高功能半导体的光刻机

　　日本佳能正通过光刻机加快抢占高功能半导体市场。佳能时隔 7 年更新了面向小型基板的半导体光刻机，提高了生产效率。在用于纯电动汽车（EV）的功率半导体和用于物联网的传感器需求有望扩大的背景下，佳能推进支持多种半导体的产品战略。目标是在三大巨头垄断的光刻机市场上确立自主地位。

　　佳能将于 2021 年 3 月发售新型光刻机「FPA-3030i5a」，该设备使用波长为 365 纳米的「i 线」光源，支持直径从 2 英寸（约 5 厘米）到 8 英寸（约 20 厘米）的小型基板。分辨率为 0.35微米，更新了测量晶圆位置的构件和软件。与以往机型相比，生产效率提高约 17%。

　　新机型调整了测量晶圆位置的「校准示波器」的构成，与曝光工序分开设置了测量单元。通过同时进行纵横两个方向的测量而缩短了时间，并通过扩大测量光的波长范围，实现了对难以识别标记的多层基板和透明基板的支持，而且能够识别出晶圆背面的标记。

　　除了目前主流的硅晶圆之外，新机型还可以提高小型晶圆较多的化合物半导体的生产效率。包括功率器件耐压性等出色的碳化硅（SiC），以及作为 5G 相关半导体材料而受到期待的氮化镓（GaN）等。随着纯电动汽车和物联网的普及，高性能半导体的需求有望增加。

　　在半导体光刻机领域，荷兰 ASML 和日本的佳能、尼康 3 家企业占据了全球 9 成以上的份额。在促进提升半导体性能的精细化领域，可使用短波长的「EUV」光源的 ASML 目前处于优势地位。佳能光学设备业务本部副业务部长三浦圣也表示，佳能将根据半导体材料和基板尺寸等客户制造的半导体种类来扩大产品线。按照客户的需求，对机身及晶圆台等平台、投影透镜、校准示波器三个主要单元进行开发和组合，建立齐全的产品群。

　　佳能还致力于研发「后期工序」（制作半导体芯片之后的封装加工等）中使用的光刻机。2020 年 7 月推出了用于 515 毫米 ×510 毫米大型基板的光刻机。以此来获取把制成的多个芯片排列在一起、一次性进行精细布线和封装的需求。佳能还致力于「纳米压印」（将嵌有电路图案的模板压在硅晶圆的树脂上形成电路）光刻设备的研发。据悉还将着力开展新一代生产工艺的研发。